镀镍目的与作用:镀镍层主要作为铜层和金层之间的阻隔层，防止金铜互相扩散，影响板子的可焊性和使用寿命;同时又镍层打底也大大增加了金层的机械强度。专业镀镍时注意:打底用或做外观，增进抗蚀能力及耐磨能力，(其中化学镍为现代工艺中耐磨能力超过镀铬)。(注意， 现在许多电子产品，比如DIN 头，N头，不再使用镍打底，主要是由于镍有磁性，会影响到电性能里面的无源互调)
化学镀镍的优点是不需要电流电源设备，厚度均们致密，针子L少，均镀性好，仿真能力强，能在复杂零件表面沉积，深镀能力强，抗蚀性能好，镀镍生产镀镍镀的速度快，镀层厚度可达10- 50, um.镀层在烧氢后无起皮、镍泡等缺 陷。 江都镀镍生产厂家告诉您镍的缺点是①镀层为非晶态的层状结构，虽然进行热处理后, 镀层结晶化，其层状结构逐渐学消失，专业镀镍生产但是对陶瓷一金属封接件的抗拉强度有所降低:回镀液的成本高， 寿命短，耗能大:⑧镀液对杂质敏感， 需经常处理，因而使工艺的可操作性变的相对复杂。
镀银最早始于1800年，第一个专业镀银的zhuanli是1838年由英国伯明翰的Elkington兄弟提出的，所用的镀液为碱性氰化物镀液，与他们发明的碱性氰化物镀黄金体系很类似。一个多世纪以来，镀银液的基本配方和当年的配方差别不大，仅仅是提高了银配位离子浓度以达到快速镀银的目的而已。氰系镀液过去的主要缺点是使用的电流密度小，现在这个问题也解决了，高效镀银使电流密度可高达10A/dm，光亮镀银可达1．5～3A/dm，其镀面光滑而无需再打光，也可镀厚。近年来快速发展起来的电子元器件的高速选择性镀银，如引线框架的选择性镀银，采用喷射镀的方法。所用的电流密度高达300～3000A/dm，镀液中氰化银钾[KAg(CN)2]的浓度 也高达40～75g/L，阳极采用白金或镀铂的钛阳极，这样在1s内即可镀上约4～5μm的银层，它已能满足硅芯片和银焊垫之间用铝线来键合(Bonding)。
镀银应用在电子工业、通讯配置和仪器仪表制造业中，镀银层很容易抛光，有很强的反光本领和良好的导热、导电、焊接性能。银镀层最早应用于装饰。在电子工业、通讯配置和仪器仪表制造业中，普遍采用镀银以降低金属零件的电阻，提高金属的焊接本领。探照灯及其他反射器中的金属反光镜也需镀银。由于银原子容易扩散和沿质料外貌滑移，在潮湿大气中易孕育产生“银须”造成短路，故银镀层不宜在印刷电路板中利用。现在利用的镀银液经常是氰化物镀液。银镀层最早应用于装饰。
化学镀镍：不用外来电流，借氧化还原作用在金属制件的表面上沉积一层镍的方法。化学镀镍的分类：⒈按镀液的PH值分类：有酸性、中性和碱性三类。按沉积温度分类：有低温、中温、高温三类。按合金成分分类：有低磷、中磷和高磷三类。按所用还原剂分类：有Ni-P、Ni-B等。
镇江镀镍过程沉积金属的原理与置换法和电解法等不同，它是利用镍盐溶液在强还原剂的作用下，使镍离子还原成金属镍，镀镍还原金属离子所需的电子由还原剂提供。镇江镀镍价格工艺流程种类，按镀液的pH值可分为酸性和碱性两大类，按镀层成分可分为Ni-P和M-B等情况。酸性Ni-P镇江镀镍工艺按镀层中磷的含量又可分高磷、中磷和低磷3类。对于这些不同类型的镇江镀镍工艺，具体发生的反应有所差异，但反应原理则基本相同，都是镀液中的还原剂将镍离子在呈催化活性的物体表面还原成金属镍镀层。
